Hellma CaF₂氟化钙晶体｜193nm深紫外核心材料

193nm深紫外光学系统中，材料性能直接决定系统精度与寿命。

Hellma作为光学材料供应商，其CaF₂（氟化钙）晶体凭借超高透射、极低双折射、高激光耐久等核心优势，成为193nm光刻、准分子激光等系统的优选材料，适配纳米级精密成像与高功率激光传输需求。

一、核心光学性能：赋能193nm深紫外精密应用

Hellma CaF₂晶体针对193nm波段专项优化，光学参数达行业水平：193nm波段透射率>99.3%/cm，10mm厚UV级产品达>99.8%，减少能量损耗；

应力双折射<5nm/cm（RMS<3nm/cm），波前畸变极小，支撑7nm及以上光刻制程；nd=1.43384、vd=95.23，色差校正能力强；

折射率均匀性<15ppm，适配光刻机大型物镜；激光损伤阈值7 J/cm²，可承受10⁹次以上准分子激光脉冲，延长使用寿命、降低维护成本。

二、激光耐久分级：适配不同光刻/激光工况

为适配不同工况，该晶体按能量、脉冲、频率分为四级：

LD-A（超高级）适配7nm及以下光刻；

LD-B（高级）适用于中高能量准分子激光与光刻照明；

LD-C适配常规能量激光传输与检测；

LD-D（标准）适用于低能量深紫外实验与简易检测。

典型规格示例：CaF₂圆片（193nm、LD-A、单晶、取向<111>，φ28.0mm×5.0mm，公差±0.1mm，表面粗糙度Rq 2µm，倒角0.5mm），可按需定制。

三、物理与环境特性：适应严苛场景

Hellma CaF₂晶体具备出色的环境适应性：大气下耐温600℃，热导率9.71 W/(m・K)，抗热变形，适配温度波动环境；

抗高能辐射、不易潮解氧化，适配光刻车间、太空等严苛场景；单晶φ250mm、多晶φ440mm，满足大型光学组件需求。

四、典型应用：覆盖深紫外领域

其广泛应用于193nm相关光学系统：193nm ArF光刻系统（7nm及以上制程物镜、照明系统）、深紫外准分子激光系统（传输、光束整形、检测组件），以及紫外光谱分析、空间光学、高功率激光实验等领域。

综上，Hellma CaF₂晶体凭借核心光学优势、灵活分级及优异环境适应性，成为193nm深紫外系统优选材料，为半导体光刻、准分子激光等行业技术升级提供有力支撑。